產(chǎn)品列表PRODUCTS LIST
在當今連接日益緊密的世界中，對超出常規電子產(chǎn)品的新型微米和納米級設備的需求不斷增長(cháng)。這些器件通過(guò)IC制造工具制造時(shí)往往需采用非標準工藝， 而依賴(lài)于微米和納米制造技術(shù)設備的生產(chǎn)非常昂貴且耗時(shí)。
在過(guò)去的幾年中，Inchfab一直致力于開(kāi)發(fā)超低成本微細加工和納米加工設備的完整平臺，更經(jīng)濟地生產(chǎn)電子、機械、化學(xué)和生物設備。Inchfab將先進(jìn)的處理能力與大尺寸的基板分離，Inchfab已經(jīng)證明，使用較小的基板也可以提高性能，并優(yōu)于大尺寸基板。
遇到的問(wèn)題
INCHFBA
在基板制造過(guò)程中，所需的薄膜材料需用化學(xué)氣相淀積來(lái)制備?；瘜W(xué)氣相淀積是把各成分元素以及摻雜劑都以氣體形式導入反應爐，在晶圓表面發(fā)生化學(xué)反應，從而生成所需的固態(tài)薄膜并淀積在其表面。
在化學(xué)氣相沉積中，真空是必須的，因為在有大氣氣體存在的情況下，化學(xué)反應是不起作用的。
研發(fā)意味著(zhù)測試，允許障礙和反應性氣體的新配方，可能多次改變流量比和氣體，且所有的必須同時(shí)保持準確，氣體流量控制的準確性不言而喻。
解決方案
ALICAT
Alicat為幫助Inchfab克服這一挑戰提供了的準確性、響應能力和控制氣體流量需求。Alicat半導體壓力控制器和MFC系列質(zhì)量流量控制器為Inchfab提供了一個(gè)性能、可靠性和價(jià)格之間無(wú)需折衷的解決方案，這使其成為Inchfab系統的選擇。
Alicat半導體MCE系列真空氣體質(zhì)量流量控制器采用了層流差壓(DP)技術(shù)，可同時(shí)測量98種氣體的質(zhì)量流量、體積流量、壓力和溫度，并進(jìn)行全溫度和壓力補償。MCE系列控制器低至0-0.5sccm、高至0-20 slpm、控制響應時(shí)間為50-100毫秒。Alicat質(zhì)量流量控制器以驚人的準確度和響應時(shí)間大大提高實(shí)驗質(zhì)量。
Inchfab 化學(xué)氣相淀積系統中使用Alicat控制器的流程圖
Alicat很高興能成為這個(gè)重要的挑戰的一部分，Alicat的質(zhì)量流量控制器適應性使得化學(xué)氣相沉積越來(lái)越好，助推許多未實(shí)現的技術(shù)早日實(shí)現。
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